研磨废水是指工业生产中（如金属加工、半导体、光学玻璃抛光等）产生的含有微小颗粒（如金属屑、磨料、抛光粉等）的废水。处理研磨废水的设备需要针对其高悬浮物、高浊度、可能含油或化学添加剂等特性进行设计。以下是研磨废水处理设备的常见原理及技术：
1. 物理处理技术
(1) 沉淀/离心分离
原理：利用重力或离心力使悬浮颗粒沉降分离。
设备：
沉淀池（平流式、斜板式）：适用于大颗粒沉降。
离心机（如卧螺离心机）：高速旋转分离细小颗粒，效率高但能耗较大。
(2) 过滤
原理：通过滤材（如滤布、滤网、滤芯）截留颗粒物。
设备：
多介质过滤器：石英砂、活性炭等分层过滤。
精密过滤器（如袋式、芯式）：去除微米级颗粒（1-50μm）。
(3) 磁分离
原理：磁性颗粒（如铁屑）在磁场作用下被吸附去除。
设备：
超磁分离机：适用于含铁磁性物质的废水，处理速度快（几分钟内完成）。
2. 化学处理技术
(1) 混凝-絮凝
原理：投加混凝剂（如PAC、PAM）使微小颗粒聚集成絮体，便于沉降或过滤。
设备：
混凝反应槽 + 斜板沉淀池：经典组合，成本低。
气浮机（DAF）：通过微气泡携带絮体上浮，适合轻质颗粒或含油废水。
(2) 破乳除油
原理：若研磨废水含乳化油，需先破乳（加酸或破乳剂）再分离。
设备：
油水分离器（如聚结分离器）。
3. 膜分离技术
原理：利用超滤（UF）、微滤（MF）膜的孔径截留颗粒物。
设备：
管式超滤膜：抗污染性强，适合高浓度研磨废水。
陶瓷膜：耐酸碱、高温，寿命长但成本高。
4. 组合工艺示例
典型流程：
研磨废水 → 格栅除渣 → 调节pH → 混凝絮凝 → 沉淀/气浮 → 过滤 → 膜处理 → 达标排放或回用案例：
半导体研磨废水：采用“离心+超滤+反渗透”组合，实现颗粒去除和水的回用。
金属加工废水：磁分离+化学沉淀，回收金属颗粒。
关键参数
悬浮物浓度：通常高达1000-5000 mg/L，需预处理降至50 mg/L以下。
颗粒粒径：0.1-100μm，决定分离技术选择（如>10μm可优先选沉淀）。
