超纯水设备的工艺要求主要包括以下几个关键步骤和技术:
预处理系统:预处理是对原水进行高效加工的关键环节,旨在提取符合后续工艺要求的给水。这一阶段主要通过去除原水中的胶体、悬浮物,将SDI控制在5以下,并降低LSI以防止碳酸盐结垢。在传统的超纯水制造中,多介质过滤器与活性炭过滤器常被用作预处理手段。然而,在半导体厂中,粗过滤器和超滤装置则更为常见,因为它们能提供更稳定的SDI值,有效保障系统后期运行1。
反渗透系统:反渗透(RO)技术是超纯水处理的核心工艺之一。单级RO适用于一般工业需求,脱盐率约95%-98%;双级RO则通过串联两级RO膜,脱盐率提升至99.8%,满足医药、电子等行业超纯水需求。RO技术通过高压迫使水分子透过孔径0.0001微米的RO膜,截留无机盐、重金属、细菌及病毒等污染物,实现水质纯化2。
电去离子(EDI)技术:在反渗透处理后,通常需要进一步深度脱盐,电阻率需大于15MΩ·cm。EDI技术利用电场作用将离子从水中分离并去除,从而实现高效脱盐1。
抛光混床工艺:为了确保超纯水系统的产水稳定性,通常在纯水箱后的输送管道中加入抛光混床工艺。双级抛光混床被广泛采用,以进一步提升水质纯度1。
紫外线杀菌器(UV)与TOC脱除器:在电去离子系统之前,通常会安装UV杀菌器,利用254nm的紫外线波长杀灭水中的微生物和细菌。而TOC脱除器则置于抛光混床之前,利用185nm的紫外线波长进行催化,通过氧化降解水中的有机物,确保产水的TOC值低于100ppb1。
其他辅助设备:包括石英砂过滤、活性炭吸附、软化器等预处理设备;中间水箱、纯水箱等储存设备;高压泵、低噪音隔膜泵等驱动设备;以及电导率仪、流量计等监测设备2。



