电子行业超纯水设备选型标准

1. ‌核心水质要求‌

   • ‌电导率‌：≤0.1μS/cm（电阻率≥18.2MΩ·cm），需通过EDI+抛光混床工艺实现‌
     。
   • ‌颗粒物‌：≥0.1μm颗粒≤5个/mL（先进制程需≤1个/mL）‌。
   • ‌TOC‌：<1 ppb，需搭配UV杀菌和脱气膜‌。

2. ‌材质与防污染设计‌

   • ‌管材‌：优先选用PVDF或ABS，避免金属离子污染。
   • ‌结构‌：内表面粗糙度Ra<0.6μm，水平管道坡度≥0.5%。
   • ‌流速‌：循环管道流速>1m/s，抑制生物膜形成。

3. ‌设备选型建议‌

   • ‌工艺‌：选择“RO反渗透+EDI+抛光混床”组合，确保水质稳定。
   • ‌品牌参考‌：
     • 中慧水处理（1.19万，PLC控制，不锈钢/碳钢材质）。
     • 金碧源（2万，EDI工艺，电阻率>18MΩ·cm）。
     • 秋康宏（5.6万，进口EDI模块，电导率≤1µS/cm）。

4. ‌验证与维护‌

   • 需通过3Q认证（DQ/IQ/OQ）和72小时稳定性测试‌。
   • 定期监测电阻率、TOC等参数，确保符合SEMI F57标准‌。